1. 半导体衬底材料的加工
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晶圆切割与减薄:
绿碳化硅研磨粉用于切割碳化硅(SiC)、硅(Si)、蓝宝石(Al₂O₃)等硬脆半导体衬底材料。SiC晶圆因其极高的硬度(莫氏硬度9.2),传统加工难度大,绿碳化硅(硬度9.5)是理想的磨料选择。 -
边缘抛光:
防止晶圆边缘裂纹扩展,提升器件可靠性。 -
研磨与粗抛光:
在衬底制备的初期阶段,用于去除表面损伤层和平整化。

2. 碳化硅(SiC)功率器件制造
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SiC器件加工:
SiC基半导体(如二极管、MOSFET)因耐高压、高温特性广泛应用于新能源车、5G等领域。绿碳化硅研磨粉用于:-
晶圆表面粗磨:快速去除切割后的表面缺陷。
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沟槽研磨:用于SiC功率器件的精细结构加工。
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3. 光学与电子元件加工
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蓝宝石衬底处理:
用于LED、Micro-LED等器件的蓝宝石衬底切割和研磨,确保表面平整度。 -
石英、陶瓷组件:
加工半导体设备中的高精度陶瓷部件,如静电卡盘、绝缘环等。
4. 辅助应用
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抛光液添加剂:
作为抛光浆料中的磨料,用于化学机械抛光(CMP)前的粗抛工序。 -
刀具与钻头涂层:
绿碳化硅粉末可用于制备高硬度切削工具,加工半导体封装材料。
优势对比其他磨料
特性 | 绿碳化硅(SiC) | 金刚石 | 氧化铝(Al₂O₃) |
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硬度(莫氏) | 9.5 | 10 | 9 |
热导率 | 高 | 极高 | 低 |
成本 | 中等 | 高 | 低 |
适用材料 | SiC、蓝宝石等 | 所有 | 软质材料 |
绿碳化硅在性价比和加工效率上平衡较好,尤其适合SiC等超硬材料。